FDG8850NZ: 30V 双N沟道PowerTrench® MOSFET

该双N和P沟道逻辑电平增强模式场效应晶体管采用飞兆半导体专有的高单元密度DMOS技术生产。 这种密度非常高的工艺是专为最大限度地降低导通阻抗而定制的。 该器件特别为低电压应用设计，以替代双极数字晶体管和小信号MOSFET。 由于不需要偏压电阻，该双通道数字FET可取代数个具有不同偏压电阻值的数字晶体管。

特性

• 最大r_DS(on) = 0.4Ω （V_GS = 4.5V, I_D = 0.75A）
• 最大r_DS(on) = 0.5Ω （V_GS = 2.7V, I_D = 0.67A）
• 极低的栅极驱动要求允许在3V电路中运行(V_GS(th)<1.5V)
• 非常小的封装尺寸SC70-6
• 符合RoHS标准

Application Notes